技术

为智能硬件开发者、创客提供有关基于英特尔嵌入式处理器的应用技术介绍和合作伙伴方案介绍

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺

TechInsights发现了四种EUV光刻(EUVL)工艺,用于阵列有源切割/外围有源(有源修剪)、位线接触(BLC)、存储节点接触垫(SNLP)/外围第一金属层 (M1)和存储节点(SN)管图形化

EMC滤波知多少

今天我们来聊聊EMC滤波,EMC整改中常用的滤波方式有很多种,下面我们就根据这几种滤波方式,分析一下在使用过程中需要注意的事项

防静电,电容也可以say yes

EMC设计过程中,常用的思路包括“堵”和“疏”,电感,磁珠通常用于“堵”,而电容器通常用于“疏”,个人觉得“疏“比”堵”更加可靠