三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
judy-- 周三, 08/09/2023 - 15:54
TechInsights发现了四种EUV光刻(EUVL)工艺,用于阵列有源切割/外围有源(有源修剪)、位线接触(BLC)、存储节点接触垫(SNLP)/外围第一金属层 (M1)和存储节点(SN)管图形化
为智能硬件开发者、创客提供有关基于英特尔嵌入式处理器的应用技术介绍和合作伙伴方案介绍
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